日本kashiyama半導(dǎo)體刻蝕高耐蝕干式真空泵

日本kashiyama半導(dǎo)體刻蝕高耐蝕干式真空泵

產(chǎn)品定位

• SDX：節(jié)能?對應(yīng)苛刻工藝機型
• SDT / SDH：高工藝耐受性?超級苛刻工藝對應(yīng)機型（SDH為更高耐工藝系列）

關(guān)鍵規(guī)格一覽

通用參數(shù)

• 電源：3相 AC200–220 V（50/60 Hz）
• 極限壓力：無加熱、無N?吹掃條件下測得
• 抽速：為參考值
• 冷卻水：工業(yè)用水，流量見上表

共同技術(shù)特點

• 垂直螺桿轉(zhuǎn)子：轉(zhuǎn)子相互無接觸，零摩擦、低粉塵，MTBF 大幅延長
• 新型分區(qū)加熱系統(tǒng)：保持泵腔溫度梯度，減少副產(chǎn)物沉積，提高工藝耐受性
• 空冷 + 氣鎮(zhèn)（Gas-Ballast）：無需冷卻水配管即可排蒸氣流，節(jié)省潔凈區(qū)空間
• 集中監(jiān)控（CMS）接口：可遠程讀取溫度、電流、壓力，與主機臺聯(lián)動

典型應(yīng)用

• 硅/碳化硅晶圓刻蝕、CVD、ALD、離子注入
• LED 藍寶石襯底與 GaN 外延層工藝
• 功率器件、射頻器件的金屬濺射與氧化物成膜
• 大面積 FPD（TFT-LCD、OLED）干刻與 PECVD 制程