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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • TH-12多層鎳電鍍電位差電鍍層厚度測量儀

    多層鎳電鍍電位差電鍍層厚度測量儀 多種電鍍材料測量:可測量銅、鎳、鉻、鋅、錫、銀、金、銅-鋅合金、錫-鉛合金等多種電鍍材料的厚度。通過選配的電解液,還可測量鎘、無電解鎳(Ni-P)、錫-鋅合金、鉛、鐵等電鍍材料。

    更新時間

    2025-10-22

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  • TH-11各類金屬電鍍材料鍍層厚度測量儀測厚儀

    各類金屬電鍍材料鍍層厚度測量儀測厚儀 多種電鍍材料測量:可測量銅、鎳、鉻、鋅、錫、銀、金、銅-鋅合金、錫-鉛合金等多種電鍍材料的厚度。通過選配的電解液,還可測量鎘、無電解鎳(Ni-P)、錫-鋅合金、鉛、鐵等電鍍材料。

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    2025-10-22

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  • TH-11電解式金屬合金鍍層涂層厚度測量儀膜厚儀

    電解式金屬合金鍍層涂層厚度測量儀膜厚儀 可測量銅、鎳、鉻、鋅、錫、銀、金、銅-鋅合金、錫-鉛合金等多種電鍍材料的厚度。通過選配的電解液,還可測量鎘、無電解鎳(Ni-P)、錫-鋅合金、鉛、鐵等電鍍材料。

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    2025-10-22

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  • TOF-S高重復(fù)性非接觸離線分光干涉式測厚儀

    高重復(fù)性非接觸離線分光干涉式測厚儀 TOF-S 是一款桌面型離線分光干涉式厚度測量裝置,主要用于測量電子、光學(xué)用透明平滑薄膜和多層薄膜的厚度。 實現(xiàn)高重復(fù)性測量,精度可達(dá)±0.01微米以下(取決于被測物和測量條件)。 溫度穩(wěn)定性:受溫度變化影響小,適合在不同環(huán)境條件下使用。 非接觸式測量:采用分光干涉式原理,無需接觸被測物,減少對被測物的損傷。 可以從薄膜的一側(cè)進(jìn)行測量,適合測量透明涂膜

    更新時間

    2025-10-22

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  • TOF-6R001光學(xué)薄膜桌面型離線接觸式線性測厚儀

    光學(xué)薄膜桌面型離線接觸式線性測厚儀 桌面型離線接觸式厚度測量裝置,適用于薄膜、高精度塑料薄膜(如聚酰亞胺薄膜、光學(xué)薄膜等)的厚度測量。 自動運輸測量,確保測量數(shù)據(jù)的一致性,無個人差異。 厚度分布雷達(dá)圖:可用于調(diào)整膨脹薄膜,直觀展示厚度分布。 高精度測量:接觸式測量,最小顯示值可達(dá)0.01微米。

    更新時間

    2025-10-22

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  • TOF-C2薄膜研發(fā)用離線靜電容量式非接觸式測厚儀

    薄膜研發(fā)用離線靜電容量式非接觸式測厚儀 測量精度可達(dá)±0.01μm,能夠?qū)崿F(xiàn)高重復(fù)性和高穩(wěn)定性的測量。 測量范圍廣:測量范圍為0-500μm,工作區(qū)間為10-230μm,可滿足多種薄膜材料的厚度測量需求。 快速測量:測量速度為100ms/點,能夠快速完成測量,提高工作效率。

    更新時間

    2025-10-21

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  • TOF-C2日本yamabun非接觸式半導(dǎo)體薄膜測厚儀

    日本yamabun非接觸式半導(dǎo)體薄膜測厚儀 測量精度可達(dá)±0.01μm,能夠?qū)崿F(xiàn)高重復(fù)性和高穩(wěn)定性的測量。 測量范圍廣:測量范圍為0-500μm,工作區(qū)間為10-230μm,可滿足多種薄膜材料的厚度測量需求。 快速測量:測量速度為100ms/點,能夠快速完成測量,提高工作效率。

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    2025-10-21

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  • TOF-C2日本yamabun山文非接觸式防塵膜測厚儀

    日本yamabun山文非接觸式防塵膜測厚儀 測量精度可達(dá)±0.01μm,能夠?qū)崿F(xiàn)高重復(fù)性和高穩(wěn)定性的測量。 測量范圍廣:測量范圍為0-500μm,工作區(qū)間為10-230μm,可滿足多種薄膜材料的厚度測量需求。 快速測量:測量速度為100ms/點,能夠快速完成測量,提高工作效率。

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    2025-10-21

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